![ソフィーナ iPスキンケアUV 03シミができやすい肌環境 30g[日焼け止め 下地]](https://thumbnail.image.rakuten.co.jp/@0_mall/v-drug/cabinet/0111/4901301423917.jpg?_ex=2048x2048)
ソフィーナ iPスキンケアUV 03シミができやすい肌環境 30g[日焼け止め 下地]
¥3,300
ソフィーナ iPスキンケアUV 03シミができやすい肌環境 30g/日焼け止め 下地
ソフィーナ iPスキンケアUV 03シミができやすい肌環境 30g○リニューアル等により、パッケージ画像は予告なく変更されることがあります。
お届けの商品と異なる場合がございますのでご了承ください。
○SPF値だけじゃない。
新基準。
肌環境で選ぶUV。
肌環境により異なる「肌の事実」に着眼。
有効成分「カモミラET」が、紫外線を浴びた後に出されるメラニン生成の情報伝達を抑制。
過剰なメラニン生成を抑えて、シミ・ソバカスを作らせません。
また、日やけ後のほてりや、肌荒れを防ぐ、抗炎症成分(有効成分)配合。
やわらかく肌になじみ、べたつかない使い心地で、うるおって明るいつやのある肌に。
成分カモミラET*、グリチルレチン酸ステアリル*、水、エタノール、酸化Zn、パラメトキシケイ皮酸オクチル、低温焼成酸化Zn、セバシン酸ジイソプロピル、ローズマリーエキス、濃グリセリン、DPG、イソノナン酸イソノニル、ジメチコン、アクリル酸ナトリウム・アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウム共重合体/イソヘキサデカン/ポリソルベート80、BG、トリスエチルヘキシルオキシカルボニルアニリノトリアジン、安息香酸アルキル(12〜15)、雲母Ti、2,4-ビス-[{4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ}-フェニル]-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]安息香酸ヘキシルエステル、PEG1540、無水ケイ酸、ヘキサデシロキシPGヒドロキシエチルヘキサデカナミド、ユーカリエキス、牡丹エキス、シナノキエキス、シュガースクワラン、酸化Ti、キサンタンガム、オレイン酸ソルビタン、低粘度メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、無水エタノール、エデト酸塩、香料 *は「有効成分」無表示は「その他の成分」 問い合わせ先花王株式会社 生活者コミュニケーションセンター消費者相談室 〒131ー8501東京都墨田区文花2ー1ー3 0120ー165ー692
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有効成分「カモミラET」が、紫外線を浴びた後に出されるメラニン生成の情報伝達を抑制。
過剰なメラニン生成を抑えて、シミ・ソバカスを作らせません。
また、日やけ後のほてりや、肌荒れを防ぐ、抗炎症成分(有効成分)配合。
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成分カモミラET*、グリチルレチン酸ステアリル*、水、エタノール、酸化Zn、パラメトキシケイ皮酸オクチル、低温焼成酸化Zn、セバシン酸ジイソプロピル、ローズマリーエキス、濃グリセリン、DPG、イソノナン酸イソノニル、ジメチコン、アクリル酸ナトリウム・アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウム共重合体/イソヘキサデカン/ポリソルベート80、BG、トリスエチルヘキシルオキシカルボニルアニリノトリアジン、安息香酸アルキル(12〜15)、雲母Ti、2,4-ビス-[{4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ}-フェニル]-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]安息香酸ヘキシルエステル、PEG1540、無水ケイ酸、ヘキサデシロキシPGヒドロキシエチルヘキサデカナミド、ユーカリエキス、牡丹エキス、シナノキエキス、シュガースクワラン、酸化Ti、キサンタンガム、オレイン酸ソルビタン、低粘度メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、無水エタノール、エデト酸塩、香料 *は「有効成分」無表示は「その他の成分」 問い合わせ先花王株式会社 生活者コミュニケーションセンター消費者相談室 〒131ー8501東京都墨田区文花2ー1ー3 0120ー165ー692